在真空镀膜、半导体蚀刻、真空热处理等需要真空环境的工业制程中，温度控制面临特殊挑战，而模温机成为保障工艺稳定的核心设备。苏州新久阳机械针对真空环境研发的专用模温机，以独特的技术设计突破温控难题。

在真空镀膜工艺里，基板温度直接影响膜层附着力与均匀性。新久阳机械的真空镀膜专用模温机采用非接触式加热技术，通过红外辐射对基板进行加热，避免因传统接触式加热引入杂质影响真空环境。设备控温精度可达 ±0.2℃，在光学镜片真空镀膜时，将基板温度稳定维持在 80 - 120℃，确保镀膜材料均匀沉积，膜层的透光率和耐磨性显著提升。某光学企业使用该模温机后，镜片镀膜的良品率从 82% 提升至 95% 。

在半导体蚀刻工艺中，真空腔体内的温度变化会影响蚀刻速率与精度。新久阳机械的半导体蚀刻专用模温机，配备真空密封循环系统，防止传热介质泄漏破坏真空环境。设备支持多段温度曲线编程，可根据蚀刻工艺需求，精准控制蚀刻液温度在 15 - 30℃区间波动，使蚀刻精度达到 ±5nm，满足先进半导体制造工艺要求。